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石墨烯及相關(guān)二維材料顯微結(jié)構(gòu)表征
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《石墨烯及相關(guān)二維材料顯微結(jié)構(gòu)表征》詳細(xì)介紹了電子衍射、高分辨透射電子顯微術(shù)、掃描透射電子顯微術(shù)、能譜分析、原位透射電子顯微術(shù)、掃描電子顯微術(shù)、低能電子顯微術(shù)、掃描探針顯微術(shù)在石墨烯、氮化硼、過(guò)渡金屬硫族化合物等二維材料顯微結(jié)構(gòu)表征方面的應(yīng)用，既可作為掌握電子顯微分析技術(shù)的自學(xué)用書，也可作為石墨烯等二維材料原子結(jié)構(gòu)研究的前沿讀本。本書可作為材料、物理、化學(xué)、微電子等專業(yè)科研人員的參考書，也可供高等院校高年級(jí)本科生、研究生及科研人員參考和閱讀。
目錄(103章)
倒序
- 封面
- 版權(quán)頁(yè)
- 書名頁(yè)
- 內(nèi)容提要
- 序
- 前言
- 第1章 緒論
- 1.1 石墨烯及其他二維晶體的結(jié)構(gòu)與性能
- 1.1.1 石墨烯
- 1.1.2 氮化硼
- 1.1.3 過(guò)渡金屬硫族化合物
- 1.1.4 其他二維晶體
- 1.2 本書內(nèi)容的安排
- 參考文獻(xiàn)
- 第2章 電子衍射及衍襯像分析
- 2.1 電子衍射及衍襯象基礎(chǔ)［1-3］
- 2.2 電子衍射及衍襯像分析在石墨烯研究方面的應(yīng)用
- 2.2.1 層數(shù)測(cè)定
- 2.2.2 表面形貌分析
- 2.2.3 晶粒分析
- 2.2.4 堆垛順序的判定和旋轉(zhuǎn)堆垛層錯(cuò)分析
- 2.3 電子衍射及衍襯像分析在其他二維晶體研究方面的應(yīng)用
- 2.3.1 氮化硼
- 2.3.2 過(guò)渡金屬硫族化合物
- 2.3.3 范德瓦爾斯異質(zhì)結(jié)構(gòu)
- 參考文獻(xiàn)
- 第3章 高分辨透射電子顯微術(shù)
- 3.1 高分辨電子顯微像的形成［12-14］
- 3.1.1 試樣對(duì)入射電子的散射
- 3.1.2 電子波的傳播和衍射
- 3.1.3 高分辨像形成過(guò)程中的襯度傳遞函數(shù)
- 3.1.4 球差校正電子顯微鏡
- 3.2 高分辨電子顯微像的計(jì)算機(jī)模擬［12-14］
- 3.2.1 Cowley-Moodie多層法
- 3.2.2 高分辨顯微像的計(jì)算機(jī)模擬
- 3.3 高分辨透射電子顯微術(shù)在石墨烯結(jié)構(gòu)表征方面的應(yīng)用
- 3.3.1 石墨烯層數(shù)表征
- 3.3.2 石墨烯缺陷結(jié)構(gòu)表征
- 3.3.3 石墨烯邊緣結(jié)構(gòu)表征
- 3.4 高分辨TEM在其他二維材料結(jié)構(gòu)表征方面的應(yīng)用
- 3.4.1 氮化硼
- 3.4.2 過(guò)渡金屬硫族化合物
- 3.4.3 其他二維材料
- 參考文獻(xiàn)
- 第4章 高分辨掃描透射電子顯微技術(shù)
- 4.1 高分辨掃描透射顯微像的形成［9，10］
- 4.1.1 電子束斑的形成及影響因素
- 4.1.2 電子通道效應(yīng)
- 4.1.3 非相干高分辨掃描透射像形成過(guò)程中的傳遞函數(shù)
- 4.1.4 球差校正掃描透射顯微鏡
- 4.1.5 高分辨掃描透射像的計(jì)算機(jī)模擬
- 4.2 高分辨STEM在過(guò)渡金屬硫族化合物結(jié)構(gòu)表征中的應(yīng)用
- 4.2.1 過(guò)渡金屬硫族化合物中的點(diǎn)缺陷表征
- 4.2.2 過(guò)渡金屬硫族化合物中的一維缺陷的表征
- 4.2.3 過(guò)渡金屬硫族化合物的層數(shù)與堆垛表征
- 4.3 STEM在石墨烯和h-BN結(jié)構(gòu)表征中的應(yīng)用
- 4.3.1 石墨烯的結(jié)構(gòu)表征
- 4.3.2 h-BN的結(jié)構(gòu)表征
- 參考文獻(xiàn)
- 第5章 能譜分析
- 5.1 X射線能譜分析［1-3］
- 5.1.1 X射線能譜儀
- 5.1.2 X射線能譜分析
- 5.2 電子能量損失譜分析［15-18］
- 5.2.1 電子能量損失譜儀
- 5.2.2 電子能量損失譜
- 5.2.3 電子過(guò)濾像
- 5.2.4 電子能量損失譜在石墨烯研究方面的應(yīng)用
- 5.2.5 電子能量損失譜在其他二維材料研究方面的應(yīng)用
- 參考文獻(xiàn)
- 第6章 原位透射電子顯微術(shù)
- 6.1 二維材料在輻照作用下的演變
- 6.1.1 石墨烯在輻照作用下的演變
- 6.1.2 氮化硼在輻照作用下的演變
- 6.1.3 過(guò)渡金屬硫族化合物在輻照作用下的演變
- 6.1.4 其他二維材料在輻照作用下的演變
- 6.2 二維材料在熱場(chǎng)作用下的演變
- 6.2.1 石墨烯在熱場(chǎng)作用下的演變
- 6.2.2 過(guò)渡金屬硫族化合物在熱場(chǎng)作用下的演變
- 6.2.3 其他二維材料在熱場(chǎng)作用下的演變
- 6.3 二維材料在電場(chǎng)作用下的演變
- 6.3.1 石墨烯在電場(chǎng)作用下的演變
- 6.3.2 過(guò)渡金屬硫族化合物在電場(chǎng)作用下的演變
- 6.3.3 其他二維材料在電場(chǎng)作用下的演變
- 6.4 二維材料在力場(chǎng)作用下的演變
- 6.4.1 石墨烯在力場(chǎng)作用下的演變
- 6.4.2 過(guò)渡金屬硫族化合物在力場(chǎng)作用下的演變
- 參考文獻(xiàn)
- 第7章 其他顯微分析方法
- 7.1 光學(xué)顯微分析
- 7.2 掃描電子顯微分析
- 7.2.1 掃描電子顯微術(shù)［22］
- 7.2.2 電子背散射衍射分析
- 7.2.3 原位掃描電子顯微術(shù)
- 7.3 低能電子顯微分析［57］
- 7.3.1 低能電子顯微術(shù)
- 7.3.2 低能電子衍射
- 7.3.3 光電子顯微術(shù)
- 7.4 掃描探針顯微分析［95］
- 7.4.1 掃描隧道顯微術(shù)
- 7.4.2 彈道電子發(fā)射顯微分析
- 7.4.3 原子力顯微術(shù)
- 參考文獻(xiàn) 更新時(shí)間：2020-05-19 15:59:12
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