電沉積鎳基合金技術(shù)
本書(shū)系統(tǒng)地介紹了納米晶鎳基合金電沉積和鎳基合金復(fù)合電沉積技術(shù)。內(nèi)容先進(jìn),實(shí)用性強(qiáng),具有較高的參考價(jià)值。本書(shū)詳細(xì)介紹了工藝條件對(duì)電沉積Ni-W、Ni-Fe等納米晶合金鍍層的沉積過(guò)程、形貌、顯微硬度的綜合影響,并采用電化學(xué)方法研究了其耐蝕性。本書(shū)以Ni-W-ZrO2、Ni-SiC、Ni-Fe-NiFe2O4復(fù)合電沉積層的制備與特性研究為基礎(chǔ),闡述了鎳基合金復(fù)合電沉積的工藝實(shí)施、表面活性劑的選配,以及在鋁合金氣缸內(nèi)壁上的應(yīng)用等相關(guān)內(nèi)容。本書(shū)還介紹了在金屬材料以外的基材上電沉積鎳基鍍層的工藝研究和技術(shù)成果。
·6萬(wàn)字