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RocketMQ技術(shù)內(nèi)幕:RocketMQ架構(gòu)設(shè)計與實現(xiàn)原理(第2版)
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這是一本指導(dǎo)讀者如何在實踐中讓RocketMQ實現(xiàn)低延遲、高并發(fā)、高可用、高可靠的著作。作者是RocketMQ官方認(rèn)定的“優(yōu)秀布道師”和技術(shù)專家,持續(xù)在RocketMQ領(lǐng)域深耕。本書從源碼的角度分析了RocketMQ的技術(shù)架構(gòu)和實現(xiàn)原理,第1版獲得了良好的口碑,是RocketMQ領(lǐng)域的標(biāo)志性作品,第2版做了較大幅度的更新。ApacheRocketMQ創(chuàng)始人/LinuxOpenMessaging創(chuàng)始人兼主席/AlibabaMessaging開放技術(shù)負(fù)責(zé)人馮嘉高度評價并作序推薦。全書一共11章,邏輯上可分為3個部分:第1部分(第1章)簡單介紹了RocketMQ的設(shè)計理念與目標(biāo),以及閱讀RocketMQ源碼的方法與技巧;第二部分(第2~9章)從源碼角度對RocketMQ的技術(shù)架構(gòu)以及消息發(fā)送、消息存儲、消息消費(fèi)、消息過濾、順序消息、主從同步、事務(wù)消息等主要功能模塊的實現(xiàn)原理進(jìn)行了深入分析。第三部分(第10~11章)首先從實戰(zhàn)的角度講了RocketMQ監(jiān)控的原理、實現(xiàn)和應(yīng)用,然后通過各種類型的大量示例展示了RocketMQ的使用技巧。

丁威 張登 周繼鋒 ·基礎(chǔ)知識 ·14.7萬字

計算光刻與版圖優(yōu)化
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光刻是集成電路制造的核心技術(shù),光刻工藝成本已經(jīng)超出集成電路制造總成本的三分之一。在集成電路制造的諸多工藝單元中,只有光刻工藝可以在硅片上產(chǎn)生圖形,從而完成器件和電路三維結(jié)構(gòu)的制造。計算光刻被公認(rèn)為是一種可以進(jìn)一步提高光刻成像質(zhì)量和工藝窗口的有效手段?;诠饪坛上衲P?,計算光刻不僅可以對光源的照明方式做優(yōu)化,對掩模上圖形的形狀和尺寸做修正,還可以從工藝難度的角度對設(shè)計版圖提出修改意見,最終保證光刻工藝有足夠的分辨率和工藝窗口。本書共7章,首先對集成電路設(shè)計與制造的流程做簡要介紹,接著介紹集成電路物理設(shè)計(版圖設(shè)計)的全流程,然后介紹光刻模型、分辨率增強(qiáng)技術(shù)、刻蝕效應(yīng)修正、可制造性設(shè)計,最后介紹設(shè)計與工藝協(xié)同優(yōu)化。本書內(nèi)容緊扣先進(jìn)技術(shù)節(jié)點集成電路制造的實際情況,涵蓋計算光刻與版圖優(yōu)化的發(fā)展?fàn)顟B(tài)和未來趨勢,系統(tǒng)介紹了計算光刻與刻蝕的理論,論述了版圖設(shè)計與制造工藝的關(guān)系,以及版圖設(shè)計對制造良率的影響,講述和討論了版圖設(shè)計與制造工藝協(xié)同優(yōu)化的概念和方法論,并結(jié)合具體實施案例介紹了業(yè)界的具體做法。本書不僅適合集成電路設(shè)計與制造領(lǐng)域的從業(yè)者閱讀,而且適合高等院校微電子相關(guān)專業(yè)的本科生、研究生閱讀和參考。

韋亞一等 ·基礎(chǔ)知識 ·14萬字

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