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計算光刻與版圖優(yōu)化
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光刻是集成電路制造的核心技術(shù),光刻工藝成本已經(jīng)超出集成電路制造總成本的三分之一。在集成電路制造的諸多工藝單元中,只有光刻工藝可以在硅片上產(chǎn)生圖形,從而完成器件和電路三維結(jié)構(gòu)的制造。計算光刻被公認為是一種可以進一步提高光刻成像質(zhì)量和工藝窗口的有效手段。基于光刻成像模型,計算光刻不僅可以對光源的照明方式做優(yōu)化,對掩模上圖形的形狀和尺寸做修正,還可以從工藝難度的角度對設(shè)計版圖提出修改意見,最終保證光刻工藝有足夠的分辨率和工藝窗口。本書共7章,首先對集成電路設(shè)計與制造的流程做簡要介紹,接著介紹集成電路物理設(shè)計(版圖設(shè)計)的全流程,然后介紹光刻模型、分辨率增強技術(shù)、刻蝕效應修正、可制造性設(shè)計,最后介紹設(shè)計與工藝協(xié)同優(yōu)化。本書內(nèi)容緊扣先進技術(shù)節(jié)點集成電路制造的實際情況,涵蓋計算光刻與版圖優(yōu)化的發(fā)展狀態(tài)和未來趨勢,系統(tǒng)介紹了計算光刻與刻蝕的理論,論述了版圖設(shè)計與制造工藝的關(guān)系,以及版圖設(shè)計對制造良率的影響,講述和討論了版圖設(shè)計與制造工藝協(xié)同優(yōu)化的概念和方法論,并結(jié)合具體實施案例介紹了業(yè)界的具體做法。本書不僅適合集成電路設(shè)計與制造領(lǐng)域的從業(yè)者閱讀,而且適合高等院校微電子相關(guān)專業(yè)的本科生、研究生閱讀和參考。

韋亞一等 ·基礎(chǔ)知識 ·14萬字

搞定系統(tǒng)設(shè)計:面試敲開大廠的門
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系統(tǒng)設(shè)計面試被認為是所有技術(shù)面試中難度最大的面試,因為面試題的范圍都非常廣且模糊,其答案也是開放的,不存在標準答案或正確答案。本書是專門為準備系統(tǒng)設(shè)計面試的讀者而撰寫的,重點討論了分布式系統(tǒng)中的常用組件和大型Web應用的系統(tǒng)架構(gòu),涵蓋了幾類常見的典型應用,包括聊天系統(tǒng)、視頻流系統(tǒng)、文件存儲系統(tǒng)(云盤)、支付系統(tǒng)等,旨在幫助讀者掌握構(gòu)建一個可擴展的系統(tǒng)所需的基礎(chǔ)知識,為面試做好充分準備。作為過來人,作者提出了應對面試題的"四步法”,即確定問題范圍→總體設(shè)計→細節(jié)設(shè)計→總結(jié),書中的案例基本上都是按照這個步驟進行解析的。這種解題框架有助于在面試時搞清楚系統(tǒng)的需求、限制和瓶頸,理清思路,有條不紊地作答。通過本書,讀者可以了解不同Web應用的系統(tǒng)設(shè)計方案的要點及采用的技術(shù),據(jù)此查漏補缺,補齊自己知識體系中的短板,為面試成功增添更多的可能。而對于已經(jīng)是架構(gòu)師的讀者而言,書中的案例將為他們提供新的思路和靈感,有助于他們在面試中更加從容地展現(xiàn)自己的設(shè)計思路和實踐經(jīng)驗。

Alex Xu ·基礎(chǔ)知識 ·10.6萬字

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