X射線熒光光譜分析（第二版）
本書系統(tǒng)闡述了X射線熒光光譜分析（XRFS）基本原理，介紹了XRFS光譜儀及主要組成部件，特別是X射線激發(fā)源和X射線探測器的工作原理，強調(diào)了新型X射線激發(fā)源和探測器如聚焦毛細(xì)管X射線透鏡、硅漂移探測器和超導(dǎo)探測器等的研究進(jìn)展和特征性能。對開展XRFS分析所需的定性與定量分析方法、元素間基體校正、化學(xué)計量學(xué)計算等做了較詳細(xì)的描述，評介了各方法的特點、局限及選用原則。在XRFS分析中，樣品制備技術(shù)具有特殊的重要性，因此單獨成章，以使讀者對其有深刻認(rèn)識并能靈活運用。在儀器與維護(hù)方面，分析了不同儀器的特性，提供了一定的具有共性的儀器校正方法、日常維護(hù)知識和故障判斷原則。近年來，微區(qū)XRFS技術(shù)發(fā)展迅速，因此本書也分別介紹了同步輻射X射線熒光與光譜分析技術(shù)與應(yīng)用、微區(qū)X射線熒光光譜分析與應(yīng)用。同時還篇幅綜述了XRFS在地質(zhì)、冶金、材料、考古、生物與環(huán)境等領(lǐng)域的研究進(jìn)展與實際應(yīng)用。希望可為廣大讀者提供可以借鑒和參考的信息。本書可供X射線熒光光譜分析工作者學(xué)習(xí)參考，同時也可作為高等學(xué)校分析化學(xué)、分析儀器及相關(guān)專業(yè)師生的參考書。
·19萬字
