本書是作者根據(jù)多年從事材料表面薄膜制備技術(shù)的科研和教學(xué)經(jīng)驗(yàn)編寫而成，全書共分4章，分別闡述了材料表面防護(hù)裝飾膜層的物理氣相沉積技術(shù)（包括真空蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍鍍膜），化學(xué)氣相沉積技術(shù)（包括簡單的CVD相關(guān)理論、設(shè)備裝置、CVD種類等），硬膜及超硬膜的制備技術(shù)（金剛石膜、類金剛石膜、立方氮化硼膜、CNx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及復(fù)合薄膜等），以及利用化學(xué)、電化學(xué)反應(yīng)在材料表面制備膜層的技術(shù)（包括化學(xué)鍍、化學(xué)氧化、鈍化、磷化、電鍍、陽極氧化、微弧氧化等內(nèi)容）。本書除了具有一定的理論參考價(jià)值外，也具有較為廣泛的應(yīng)用價(jià)值，既可作為薄膜材料研究專業(yè)科技人員的參考書，也可作為高等院校材料類及相關(guān)專業(yè)的本科生、研究生教學(xué)用書。