1 物理氣相沉積
氣相沉積技術是制備薄膜的常用技術之一,是將成膜物質氣化輸運到基體上沉積為固相薄膜。氣相沉積的特點是成膜物質廣泛,即固體、液體或氣體都可作為成膜物質進行氣相沉積反應。氣相沉積一般可分為物理氣相沉積(PhysicalVaporDeposition,PVD)和化學氣相沉積(ChemicalVaporDeposition,CVD)。
氣相沉積技術是制備薄膜的常用技術之一,是將成膜物質氣化輸運到基體上沉積為固相薄膜。氣相沉積的特點是成膜物質廣泛,即固體、液體或氣體都可作為成膜物質進行氣相沉積反應。氣相沉積一般可分為物理氣相沉積(PhysicalVaporDeposition,PVD)和化學氣相沉積(ChemicalVaporDeposition,CVD)。