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集成電路產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵技術(shù)專利分析報告
最新章節(jié)：
5.5 EUV光刻技術(shù)專利態(tài)勢分析
本書從嵌入國家重大科技專項科研創(chuàng)新過程的學(xué)科情報服務(wù)實踐出發(fā)，概述有效開展學(xué)科情報服務(wù)需求調(diào)研和服務(wù)策劃的方法，展示專利技術(shù)分析案例在專項情報服務(wù)中的應(yīng)用成果及服務(wù)成效。
最新章節(jié)
- 5.5 EUV光刻技術(shù)專利態(tài)勢分析
- 5.4 多重圖形技術(shù)專利態(tài)勢分析
- 5.3 電子束光刻專利態(tài)勢分析
- 5.2 定向自組裝光刻技術(shù)專利態(tài)勢分析
- 5.1 納米壓印光刻專利態(tài)勢分析
- 第5章 光刻領(lǐng)域關(guān)鍵技術(shù)分析
上架時間：2019-07-26 18:23:03
出版社：電子工業(yè)出版社
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