X射線熒光光譜分析（第二版）
本書系統闡述了X射線熒光光譜分析（XRFS）基本原理，介紹了XRFS光譜儀及主要組成部件，特別是X射線激發源和X射線探測器的工作原理，強調了新型X射線激發源和探測器如聚焦毛細管X射線透鏡、硅漂移探測器和超導探測器等的研究進展和特征性能。對開展XRFS分析所需的定性與定量分析方法、元素間基體校正、化學計量學計算等做了較詳細的描述，評介了各方法的特點、局限及選用原則。在XRFS分析中，樣品制備技術具有特殊的重要性，因此單獨成章，以使讀者對其有深刻認識并能靈活運用。在儀器與維護方面，分析了不同儀器的特性，提供了一定的具有共性的儀器校正方法、日常維護知識和故障判斷原則。近年來，微區XRFS技術發展迅速，因此本書也分別介紹了同步輻射X射線熒光與光譜分析技術與應用、微區X射線熒光光譜分析與應用。同時還篇幅綜述了XRFS在地質、冶金、材料、考古、生物與環境等領域的研究進展與實際應用。希望可為廣大讀者提供可以借鑒和參考的信息。本書可供X射線熒光光譜分析工作者學習參考，同時也可作為高等學校分析化學、分析儀器及相關專業師生的參考書。
·19萬字
