半導體干法刻蝕技術：原子層工藝
集成電路制造向幾納米節點工藝的發展，需要具有原子級保真度的刻蝕技術，原子層刻蝕（ALE）技術應運而生?！栋雽w干法刻蝕技術：原子層工藝》主要內容有：熱刻蝕、熱各向同性ALE、自由基刻蝕、定向ALE、反應離子刻蝕、離子束刻蝕等，探討了尚未從研究轉向半導體制造的新興刻蝕技術，涵蓋了定向和各向同性ALE的全新研究和進展?！栋雽w干法刻蝕技術：原子層工藝》以特定的刻蝕應用作為所討論機制的示例，例如柵極刻蝕、接觸孔刻蝕或3DNAND通道孔刻蝕，有助于對所有干法刻蝕技術的原子層次理解。《半導體干法刻蝕技術：原子層工藝》概念清晰，資料豐富，內容新穎，可作為微電子學與固體電子學、電子科學與技術、集成電路科學與工程等專業的研究生和高年級本科生的教學參考書，也可供相關領域的工程技術人員參考。
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