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熊禮威 王傳新編著
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本書首先對CVD金剛石薄膜的性質及應用進行概述;然后對熱絲化學氣相法沉積金剛石薄膜的形核、生長過程及規律系統地進行研究分析,并對沉積過程中氣相化學進行診斷分析,討論添加輔助氣體對氣相活性基團的影響以及對沉積金剛石薄膜質量和生長速率的影響;最后介紹熱絲CVD金剛石薄膜涂層鉆頭以及微米、納米復合涂層金剛石薄膜模具。本書適合于高等院校的材料、物理、化學等專業的方向課教學用書,亦可作為相關工程領域尤其是CVD金剛石產業的科研與生產指導書。
熊禮威 王傳新編著 ·高教教材 ·7.6萬字
網站合作:傅女士 fuli.a@yuewen.com
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