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5.2 半導體的電阻率

當半導體施加外電場時,半導體中的電荷將受電場力的作用而移動。

按照電學原理,電荷在電場中的位置a處具有一定的勢能Ea,每個電荷受電場力qF作用。電荷將在電場力的作用下移動,移動時所作的功Aa是電勢能改變的量度,即

式中:Ea為相對于電荷q在無限遠處電勢為0時的電勢能;Aa表示電荷q從電場中a點移到無窮遠處電場力所作的功。

按照式(4-48),電場作用力qF等于勢能梯度的負值,即

式中,負號表示電場方向與電勢能Ea梯度相反。

按照式(4-43),電場中半導體材料的某一點電子的靜電勢ψ與電子勢能E的關系可表示為

由于在雜質均勻分布的半導體中,E0、ECEVEFEi等能級的能量均為電子勢能,由能帶圖可見,均勻半導體材料的這些電子能級相互平行,梯度相等,即

為方便計,可用處于禁帶中心的本征費米能級Ei表征:

按照式(4-46),ψ梯度的負值等于電場強度F,即

式中,負號表示電場方向與ψ梯度相反。

如圖5-4(a)所示,電子帶負電荷,每個電子受電場力-qF作用,電場對電子的作用力等于勢能梯度的負值:

圖5-4 n型半導體導電過程

以n型半導體為例,在均勻的n型半導體中,按照電學原理的靜電勢與電勢能的關系,外加電壓V(即半導體兩端之間的電勢差Δψ)將使電子勢能隨著距離x的增加而線性下降。

圖5-4(b)所示為n型半導體導電過程的熱平衡情況。電場強度為常數,方向為負x方向,其值為外加電壓V除以半導體樣品的長度L,即

在圖5-4(a)中,導帶電子在電場作用下首先向外加電壓V為正的方向運動,在前進方向上碰撞到晶格時,將部分或全部動能轉移給晶格,恢復熱平衡狀態,然后在電場作用下繼續前進,不斷重復上述過程,即可形成電子導電??昭ㄒ韵喾吹姆较?,以同樣的方式運動,形成空穴導電。于是,載流子在外電場作用下輸運產生漂移電流。

電場促使載流子定向運動,而散射促使載流子運動紊亂,影響電導。

如圖5-5所示,考慮截面積為A、長度為L的樣品,在樣品上外加電場時,樣品中電子電流密度Jn等于單位體積內總數為n的所有電子的電荷(-q)與電子速度乘積的總和:

式中,In為電子電流,n為電子濃度。

圖5-5 均勻摻雜長條形半導體樣品中的漂移電流

由式(5-7)可知,υn=nF,所以Jn

空穴的情況與此類似??昭姾扇≌?,得Jp

在外加電場的作用下,流過半導體樣品的總電流密度為

式中,σ為電導率:

半導體的電阻率ρsσ的倒數,即

在摻雜半導體中,電子和空穴這兩種載流子的濃度相差很大,因此在n型半導體中,近似地認為

而在p型半導體中,近似地認為

輕摻雜時(雜質濃度為1017~1018cm-3),可以認為室溫條件下雜質全部電離,式(5-33)和式(5-34)中載流子濃度近似等于雜質濃度,即nNDpNA

采用圖5-3給出的遷移率數據和載流子濃度可計算出電阻率。遷移率取決于離化雜質總濃度的大小,即取決于受主濃度和施主濃度之和,而電子濃度和空穴濃度取決于受主濃度和施主濃度之差。

T=300K時非補償或輕補償的硅材料的電阻率與雜質濃度的關系曲線如圖5-6所示。對于輕摻雜,可以認為在室溫下雜質是全部電離的。當摻雜濃度增高時,由于雜質在室溫下不能全部電離,遷移率隨雜質濃度的增加而顯著下降[3]。

圖5-6 T=300K時非補償或輕補償的硅材料的電阻率與雜質濃度的關系曲線

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