第2章　化學氣相沉積技術(shù)

化學氣相沉積（chemical vapor deposition，簡稱CVD）是一種化工技術(shù)，指利用加熱、等離子激勵或光輻射等手段提供能量，使一種或幾種氣相化合物或單質(zhì)，在氣相或固體基底表面經(jīng)化學反應(yīng)形成固態(tài)沉積物的技術(shù)。CVD技術(shù)是近幾十年發(fā)展起來的新技術(shù)，已經(jīng)廣泛用于提純物質(zhì)，研制新晶體，沉積各種單晶、多晶或玻璃態(tài)無機薄膜等材料。目前，CVD已成為無機合成化學領(lǐng)域的一種重要技術(shù)。