光刻機的對準系統的精度，對光刻機的芯片曝光有很大的影響。

目前國內的對準系統研究的精度，勉強可以應用要1.5微米的制造工藝上。

不過，要特別注明的一點就是，在歐美日，此時已經實現了光刻機上的自動對焦，而國內只能是手動對準。

別人的光刻機，單位時間能曝光兩百多塊晶圓片，而國產的只能曝光十幾塊。

這意味著我們自家生產的，只能在實驗室里用用，無法投入到商業應用當中，不然，這成本就...