第3章　透射電子顯微術Ⅰ成像模式和圖像襯度機理

3.1　概述

透射電子顯微鏡（Transmission Electron Microscope, TEM，簡稱透射電鏡）具有超高分辨和高放大倍率成像的能力。由于具備這種能力，過去幾十年來，透射電子顯微術已經成為探索材料微觀結構最重要，也是應用最廣泛的工具之一。它能達到的圖像高分辨率與近代發展起來的掃描探針顯微術相當[1]。

透射電鏡工作時，將經過加速和聚焦的電子束投射到很薄的試樣上，電子與試樣中的分子原子相碰撞而改變方向，發生呈立體角分布的散射。散射角的大小與試樣的密度、厚度和結構相關，因而形成不同區域明暗不同的影像。通常，透射電鏡的最高分辨率可達到0.1～0.2nm，放大倍數為幾千到百萬倍，可用于觀察材料的超微結構。供透射電鏡觀察的試樣必須制成電子束能穿透的，厚度為100～2000?的薄膜（超高壓電鏡可穿透更厚的試樣）。成像方式與光學顯微鏡相似，只是以電磁透鏡代替玻璃透鏡。放大后的電子像可在熒光屏上顯示或攝成照片。