第586章 國產光刻機崛起的希望！高通？小丑罷了！
- 發薪就能變強，我有十億員工！
- 今月曾經照古河
- 3468字
- 2025-08-28 00:09:00
EUV光源，即13.5納米波長的極深紫外光，是實現“超精密電路雕刻”的核心，直接決定了芯片的最小線寬、集成度與性能上限。
只需一次曝光，就能把掩膜版上的電路圖，復制到晶圓表層。
而傳統的DUV光刻機，需通過“多重曝光”，才能形成芯片所需的精細線路。
具體來說，就是要對同一區域的光刻膠進行2到4次光刻與顯影操作，最終效果才相當于 EUV光刻機一次曝光所能達到的水平。
梁勁松從...
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