1.6.2　離子刻蝕法

除了高能飛秒激光器，離子轟擊手段也能夠刻蝕石墨烯，使用這種方法制備石墨烯圖案的效率更高，借助掩模版，首先鏤空需要的圖案，然后離子通過圖案，將圖案部分轟擊刻蝕，而被遮擋的部分則保留下來。這種圖案加工技術十分適用于用CVD法得到的石墨烯，因為掩模版可以與銅箔/鎳箔平面貼合，露出鏤空部分，從而保護了非鏤空部分。主要流程如圖1.12所示［207］。

（1）使用計算機建模軟件繪制期望的石墨烯圖案；

（2）通過激光切割技術加工高精度的掩模版，鏤空期望的圖案；

（3）將鏤空的掩模版與用CVD法制備的石墨烯/銅箔對準；

（4）使用氧離子轟擊掩模版一面，則鏤空的部分離子可以直接作用于石墨烯表面，去除石墨烯，而其余部分則被掩模版保護；

（5）可以使用前文所述的卷對卷技術將銅箔上的石墨烯（已經有圖案）轉移到柔性襯底上。

這里需要指出的是，石墨烯的圖案與建模軟件設計的圖案呈互補關系。

圖1.12　離子刻蝕石墨烯圖案的主要流程示意圖，主要包含建模軟件圖案設計、加工掩模版、離子轟擊、轉移石墨烯幾個步驟［207］