3.5 陽極燃弧模式的控制

大開距條件下整個燃弧過程相對于小間隙條件更為復(fù)雜，燃弧存在于觸頭從較小開距到最終開距的整個過程，一般利用磁場控制電弧形態(tài)的方法隨著開距的變化會受到很大影響。本節(jié)主要介紹從分閘特性和磁場兩個方面影響和控制陽極燃弧模式的方法。