4.3　施　工

4.3.1　灌注站的位置、數量及制漿能力應根據現場實際情況、工程規模及工期要求確定。

4.3.2　單層采空區采用全孔一次性灌注或多層采空區采用自下而上式灌注時，灌注可采用似法蘭盤簡易止漿法止漿，止漿澆筑后凝固時間不宜小于48h，灌注前應對止漿裝置的有效性進行檢驗；多層采空區采用自上而下式灌注時，灌注應采用套管止漿。

4.3.3　灌注管路及其接頭應承受設計最大灌注壓力的1.5倍～2.0倍，過流斷面不應變徑，灌注管路系統應嚴格密封。

4.3.4　采空區地基處理設計等級為甲、乙級時，宜設置灌注現場試驗室，灌注施工前應對灌注漿液配比及漿液的密度、稠度、結石率、初凝和終凝時間等進行現場檢測。

4.3.5　灌注成孔施工應符合下列規定：

1　施工前應根據設計復核孔位，施工孔位與設計孔位的允許偏差宜為設計灌注孔間距的10%；

2　灌注孔位偏差因現場環境、地形地勢、地下埋設物等條件影響超過設計允許偏差時，應對原設計孔位、孔數進行調整；

3　注漿成孔宜分2個～3個次序間隔成孔；

4　鉆進時應詳細記錄漏水、吸風、掉鉆、塌孔、埋鉆等現象及采空區水位、水量的變化；

5　灌注鉆孔達到設計深度后應對鉆孔進行沖洗，對遇水軟化、漏漿嚴重鉆孔不宜沖洗，并應及時下入注漿管和止漿裝置。

4.3.6　灌注孔施工宜按照制漿——漿液性能指標檢測——泵送灌注——泵量、孔口壓力定時觀察記錄——滿足單孔結束標準——終孔報驗——提交灌注成果資料的流程進行；灌注過程中應對注漿泵壓、孔口壓力、灌注量、漿液濃度等進行全程監控，并宜每2h～3h記錄一次。

4.3.7　當單孔灌注量達到設計平均單孔灌注量的80%～120%，灌注壓力和單位灌注量均無明顯改變，或單位灌注量大于250L/min時，宜調整漿液濃度。

4.3.8　止漿裝置達到設計要求后應及時進行灌注施工，灌注孔與正在成孔的注漿孔應控制間距防止串漿。灌注過程中發生冒漿、串漿時，應采用低壓、濃漿、小泵量、間歇灌注等方法進行處理。

4.3.9　采空區地基處理范圍毗鄰正在使用的地下井巷時，應在井巷內砌筑止漿墻，并應定期進行安全觀測。

4.3.10　灌注工程竣工資料除應符合現行建筑施工竣工資料要求外，灌注施工用表宜符合本規范附錄B的規定。