王岸然很清楚，光刻機(jī)想在短時(shí)間取得突破，可能性幾乎為零。

浸入式光刻機(jī)技術(shù)也是渺茫，雙工臺(tái)的難度等級(jí)甚至比光刻機(jī)還要難。

可以預(yù)見的是，依靠先進(jìn)設(shè)備提升工藝幾乎不可能。

王岸然現(xiàn)在要做的，就是在現(xiàn)有的設(shè)備條件下，如何提升制造工藝。

這并不是不可能的，多重曝光，對(duì)準(zhǔn)雙重成像技術(shù)SADP都能有效的提升工藝水平。

當(dāng)然王岸然的目標(biāo)不僅僅如此，F(xiàn)inFET技術(shù)只是開始，既然在...